เข้าสู่ระบบ
หน้าแรก
รายการเครื่องมือวิทยาศาสตร์
ข้อมูลเครื่องมือวิทยาศาสตร์
ชื่อเครื่องมือ :
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) Safematic Model CCU-010, Switzerland
รายละเอียด :
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง ยี่ห้อ Safematic รุ่น CCU-010 ประเทศ Switzerland
- ใช้สำหรับการเคลือบผิววัสดุที่สามารถกำหนดความหนา และตรวจวัดความหนาของชั้นเคลือบ ในขณะทำการเคลือบผิวได้ในระดับนาโนเมตร ตั้งแต่ระดับ 1 นาโนเมตรเป็นต้นไป
- สามารถทำ Plasma etching ภายใต้สภาวะก๊าซชนิดต่าง ๆ ได้ โดยมีฐานวางตัวอย่าง ชนิด rotary stage และ standard stage
- สามารถเปลี่ยนวัสดุเคลือบได้หลายประเภท เช่น โลหะ สารประกอบออกไซด์ของโลหะ คาร์บอน และสามารถทำ Ultra-fine grain carbon ได้ เพื่อปรับปรุงสมบัติของวัสดุที่ต้องการ เช่น การนำไฟฟ้า สมบัติเชิงแสง ความแข็งของผิว เป็นต้น
- วัสดุเป้าหมายที่สามารถเคลือบได้ ได้แก่ Au, Pt, Ag, Au-Pd, Pt-Pd, Al, C, DLC, ITO, Co, Cr, Cu, Fe, Ge, Ir, Mg, Mo, Ni, Nb, Pb, Pd, Rh, Si, Sn, Ta, Ti, V, W, Zn เป็นต้น
สถานะ :
พร้อมใช้งาน
ติดต่อขอใช้เครื่องมือได้ที่
สอบถามเพิ่มเติมสามารถ Inbox เพจ
Industrial Chemistry Innovation, MJU
หรือติดต่อที่ ผศ.ดร.สุรศักดิ์ กุยมาลี surasak_k@mju.ac.th
หรือ ผศ.ดร.ณัฐพล เลาห์รอดพันธุ์ nattapol@mju.ac.th
ราคา
ค่าธรรมเนียมต่อ 1 ครั้ง (บาท)
ที่
รายการ
ประเภท ก
ประเภท ข
ประเภท ค
ประเภท ง
1
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) กรณีเตรียมวัสดุเคลือบมาเอง
(ความหนาชั้นเคลือบ 1-10 นาโนเมตร)
600
400
300
200
2
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) วัสดุเคลือบเป็นทอง (Au)
(ความหนาชั้นเคลือบ 1-10 นาโนเมตร)
750
500
350
250
3
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) วัสดุเคลือบเป็นทองคำขาว (Pt)
(ความหนาชั้นเคลือบ 1-10 นาโนเมตร)
1050
700
550
350
4
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) วัสดุเคลือบเป็นคาร์บอน (CLD)
(ความหนาชั้นเคลือบ 1-10 นาโนเมตร)
1500
1000
750
500
5
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) วัสดุเคลือบเป็น Indium Tin Oxide - ITO
(ความหนาชั้นเคลือบ 1-10 นาโนเมตร)
2100
1400
1050
700
6
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) วัสดุเคลือบเป็น Carbon thread evaporation
(ความหนาชั้นเคลือบ 1-10 นาโนเมตร)
2100
1400
1050
700
7
เครื่องเคลือบผิวสุญญากาศสูง (High Vacuum Coater) Plasma Etching
(เวลาในการทำ etching 1-10 วินาที)
1500
1000
750
500
หมายเหตุ
ผู้ขอใช้บริการประเภท ก และประเภท ข ที่มีการสร้างความร่วมมือ (MOU) กับทางคณะวิทยาศาสตร์ ด้านการสร้างนวัตกรรมและการวิจัยที่ใช้องค์ความรู้ ด้านจุลทรรศศาสตร์อิเล็กตรอน ให้คิดค่าธรรมเนียมเทียบเท่ากับอัตราค่าธรรมเนียมผู้ขอใช้บริการประเภท ค
ตารางการใช้งาน